UV-LED紫外掩膜曝光系統

用于軟光刻工藝，緊湊型的桌面系統

在 365nm +/- 5nm 處完全單色曝光

可處理4英寸或6英寸晶圓

提供硬接觸和軟接觸模式 

與所有光刻膠兼容

分辨率：1µm

我們在Dilase 直接激光寫入光刻技術方面擁有豐富的經驗，因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系統。 UV-KUB 2 是一種基于 UV LED 的曝光和掩膜系統，具有 365nm 的可用光源。 這是一款緊湊型的桌面系統，能夠曝光最大直徑為 4" 或 6" 的晶圓。 UV-KUB 系統與硬（物理）接觸或軟（接近）接觸工藝兼容，并具有可變掩膜到基板距離控制的特點。由觸摸屏控制，UV-KUB 2通過完全封閉的曝光保證安全。由于它的密封配置，該設備不需要安裝在潔凈室中。

技術突破：

1、高質量準直器

· 發散角小于2°，保證了在厚層上實現分辨率低至 1µm和邊緣垂直度極 jia的圖案。

· 這種高質量的準直允許在不需要真空接觸模式的情況下達到微米級的分辨率。

2、LED技術

·完 mei的單色曝光光源

·冷紫外線源，防止不良熱效應

·可以在連續或脈沖模式下運行

·壽命長：uv-led光源不屬于消耗品

特征：

• 整個工作表面上的完 mei單色曝光光源：更高的固化效率

• 低溫紫外線照射條件和基板環境的實時原位溫度控制：在整個表面上提供均勻的照射，從而防止不良的熱效應

• 壽命長（基于 LED 系統）：> 10 000 小時有效使用

• 用戶友好型觸摸屏界面，可設置曝光循環編程

• 提供連續或循環曝光模式

• 無需預熱時間

• 紫外線源強度調節的計算機控制，很直觀

• 紫外線照射室完全密封：保證用戶安全

• 自動晶圓裝卸系統

• 低消耗

應用范圍：

UV-KUB 2 系統非常適合實驗室和研發團隊的廣泛應用，涉及微流體、光學、生物技術、微技術、需要 1 個掩模層的光刻工藝、晶圓鍵合、簡單層或粘合劑固化、連接、組裝和生物 或細胞培養。

技術參數：

UV-LED光源：

工作處理表面：

其他參數：

·尺寸：260(L)x 260(W)x 260(H)毫米

·重量：8,2千克/18磅

·彩色觸摸屏：5,7英寸

·功率密度：35 mW/cm2+/-10%

·電源：100 v/240 V-50 Hz/60 Hz

·功率/消耗量：180 W

·掩膜版與晶圓之間的距離控制：10 µm

·全版曝光：6mm

·基片厚度+層數：最大2mm